Předkládaná bakalářská práce se v úvodu zabývá využitím plazmových technologií.
Dále popisuje základy magnetronového naprašování, jejich vývoj a použití, přičemž se zaměřuje především na vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování. Poté rozebírá základní metody modelování a simulace plazmatu a zaobírá se jednotlivými modely pro vysokovýkonové pulzní magnetronové výboje. Ve zvolených metodách zpracování popisuje, jak byl doplněn stávající nestacionární model pro vysokovýkonové pulzní magnetronové rozprašování kovů o parametry nutné k modelování rozprašování tantalu, titanu a zirkonia. Ve výsledcích jsou ukázány a diskutovány závislosti proudové hustoty na třech různých parametrech - výbojovém napětí Ud, koe?cientu zpětného zachycení sekundárních elektronů terčem r a hodnotě faktoru určujícího sekundární emisi elektronů z terče po dopadu iontu rozprašovaného kovu s.
Annotation in English
The presented bachelor?s thesis is at the beggining focused on using of plasma tech-nologies. Next, it explains basics of magnetron sputtering, its developement and use, with focus on High Power Impulse Magnetron Sputtering. Afterwards, it discusses ba-sic methods in modelling and simulation of plasma, with closer look on speci?c models for High Power Impulse Magnetron Sputtering discharges. The thesis describes how current non-stationary model for High Power Impulse Magnetron Sputtering of metals was supplemented with parameters necessary for modelling of tantal, titanium and zir-conium sputtering. The results are presented and discussed, with focus on dependence of current density on three parameters: discharge voltage Ud, coecient of recapture
of secondary electrons to target r and factor of secondary emission of electrons from target after impact by ion of sputtered metal s.
plasma, high power impulse magnetron sputtering, sputtering of metals, HiPIMS, modelling, simulation, non-stacionary global model
Length of the covering note
51 s.
Language
CZ
Annotation
Předkládaná bakalářská práce se v úvodu zabývá využitím plazmových technologií.
Dále popisuje základy magnetronového naprašování, jejich vývoj a použití, přičemž se zaměřuje především na vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování. Poté rozebírá základní metody modelování a simulace plazmatu a zaobírá se jednotlivými modely pro vysokovýkonové pulzní magnetronové výboje. Ve zvolených metodách zpracování popisuje, jak byl doplněn stávající nestacionární model pro vysokovýkonové pulzní magnetronové rozprašování kovů o parametry nutné k modelování rozprašování tantalu, titanu a zirkonia. Ve výsledcích jsou ukázány a diskutovány závislosti proudové hustoty na třech různých parametrech - výbojovém napětí Ud, koe?cientu zpětného zachycení sekundárních elektronů terčem r a hodnotě faktoru určujícího sekundární emisi elektronů z terče po dopadu iontu rozprašovaného kovu s.
Annotation in English
The presented bachelor?s thesis is at the beggining focused on using of plasma tech-nologies. Next, it explains basics of magnetron sputtering, its developement and use, with focus on High Power Impulse Magnetron Sputtering. Afterwards, it discusses ba-sic methods in modelling and simulation of plasma, with closer look on speci?c models for High Power Impulse Magnetron Sputtering discharges. The thesis describes how current non-stationary model for High Power Impulse Magnetron Sputtering of metals was supplemented with parameters necessary for modelling of tantal, titanium and zir-conium sputtering. The results are presented and discussed, with focus on dependence of current density on three parameters: discharge voltage Ud, coecient of recapture
of secondary electrons to target r and factor of secondary emission of electrons from target after impact by ion of sputtered metal s.
plasma, high power impulse magnetron sputtering, sputtering of metals, HiPIMS, modelling, simulation, non-stacionary global model
Research Plan
Studium literatury o magnetronovém naprašování a jeho modelování pomocí globálních zákonů zachování.
Seznámit se s nestacionárním modelem pro vysokovýkonové pulzní magnetronové rozprašování. Doplnit model o potřebné parametry pro alespoň dva různé materiály terče.
Provést počítačové simulace vysokovýkonových pulzních magnetronových výbojů s různými materiály terče. Prozkoumat vliv vstupních parametrů modelu na sledované výbojové charakteristiky. Provést kvalitativní diskusi výsledků.
Research Plan
Studium literatury o magnetronovém naprašování a jeho modelování pomocí globálních zákonů zachování.
Seznámit se s nestacionárním modelem pro vysokovýkonové pulzní magnetronové rozprašování. Doplnit model o potřebné parametry pro alespoň dva různé materiály terče.
Provést počítačové simulace vysokovýkonových pulzních magnetronových výbojů s různými materiály terče. Prozkoumat vliv vstupních parametrů modelu na sledované výbojové charakteristiky. Provést kvalitativní diskusi výsledků.