Předložená bakalářská práce se nejdříve zabývá obecným shrnutím současného stavu problematiky pulzního reaktivního naprašování tenkých dielektrických vrstev. Jsou popsány základní údaje a problémy tohoto oboru, a software užitý pro simulace srážek částic SDTrimSP. Dále se práce zabývá popsáním fenomenologického modelu reaktivního naprašování tenkých vrstev jeho následnou analýzou. Jsou prezentovány rovnice modelu, a následně použity k numerické simulaci naprašovacího procesu v kontinuálním, pulzním a HiPIMS režimu. Poté se práce zabývá vlivem některých vstupních parametrů modelu na výsledky výpočtů. Na závěr je shrnuta užitá literatura a zdroje.
Anotace v angličtině
Presented thesis is first, at the beggining, focused on summation of the current state in the field of pulsed reactive sputtering of dielectric thin films. Basic terms and problems are presented, along with short description of SDTrimSP, a software used for simulation of particle collisions. Next, the work focuses on description of a phenomenological model of reactive sputtering of thin films, and it's following numerical simulation of continual, pulse and HiPIMS modes of sputtering. After that, several input parameters of the model are analysed. At the end, a list of used materials is presented.
thin films sputtering, dielectric thin films, pulsed reactive sputtering, HiPIMS, phenomenological model
Rozsah průvodní práce
39 stran
Jazyk
CZ
Anotace
Předložená bakalářská práce se nejdříve zabývá obecným shrnutím současného stavu problematiky pulzního reaktivního naprašování tenkých dielektrických vrstev. Jsou popsány základní údaje a problémy tohoto oboru, a software užitý pro simulace srážek částic SDTrimSP. Dále se práce zabývá popsáním fenomenologického modelu reaktivního naprašování tenkých vrstev jeho následnou analýzou. Jsou prezentovány rovnice modelu, a následně použity k numerické simulaci naprašovacího procesu v kontinuálním, pulzním a HiPIMS režimu. Poté se práce zabývá vlivem některých vstupních parametrů modelu na výsledky výpočtů. Na závěr je shrnuta užitá literatura a zdroje.
Anotace v angličtině
Presented thesis is first, at the beggining, focused on summation of the current state in the field of pulsed reactive sputtering of dielectric thin films. Basic terms and problems are presented, along with short description of SDTrimSP, a software used for simulation of particle collisions. Next, the work focuses on description of a phenomenological model of reactive sputtering of thin films, and it's following numerical simulation of continual, pulse and HiPIMS modes of sputtering. After that, several input parameters of the model are analysed. At the end, a list of used materials is presented.
thin films sputtering, dielectric thin films, pulsed reactive sputtering, HiPIMS, phenomenological model
Zásady pro vypracování
Prostudovat současný stav problematiky reaktivního magnetronového naprašování dielektrických vrstev a seznámit se s matematickými modely pro popis klíčových povrchových i objemových fyzikálních procesů.
Navrhnout a implementovat fenomenologický model vysokovýkonové pulzní reaktivní depozice dielektrických vrstev. Stanovit potřebné materiálové parametry pro zadaný materiál terče.
Provést počítačové simulace reaktivní depozice pro různé výbojové podmínky a parametry modelu. Určit klíčové vstupní parametry modelu a ověřit správnost výsledků pomocí modelových úloh. Zaměřit se na kvalitativní porovnání konvenční a vysokovýkonové pulzní reaktivní depozice a pokusit se najít korelaci s experimentálními výsledky.
Zásady pro vypracování
Prostudovat současný stav problematiky reaktivního magnetronového naprašování dielektrických vrstev a seznámit se s matematickými modely pro popis klíčových povrchových i objemových fyzikálních procesů.
Navrhnout a implementovat fenomenologický model vysokovýkonové pulzní reaktivní depozice dielektrických vrstev. Stanovit potřebné materiálové parametry pro zadaný materiál terče.
Provést počítačové simulace reaktivní depozice pro různé výbojové podmínky a parametry modelu. Určit klíčové vstupní parametry modelu a ověřit správnost výsledků pomocí modelových úloh. Zaměřit se na kvalitativní porovnání konvenční a vysokovýkonové pulzní reaktivní depozice a pokusit se najít korelaci s experimentálními výsledky.