Předkládaná bakalářská práce je zaměřena na popsání technologie "nanoimprinting lithography" (NIL) využívané v elektrotechnickém průmyslu. Její součástí je zmapování aplikací technologie NIL v oblasti tištěné i flexibilní elektroniky a uvedení používaných variant v oblasti technologických postupů. Dále specifikace a charakteristika současných trendů vývoje této technologie a její využití do budoucna. Cílem je tedy poskytnout určité představení této technologie a pomoci pochopit stávající problematiku výroby a vývoje.
Hlavní přínos práce spočívá ve shromáždění důležitých informací a následném vyvození poznatků o funkci jednotlivých typů technologických postupů. Tyto lze aplikovat při jakékoliv jiné práci v oblasti litografie, nejen v elektronickém průmyslu.
Anotace v angličtině
This bachelor thesis focuses on the description of "nanoimprinting lithography" (NIL) used in electrical industry. It introduces different aplications of this technology in printed and flexible electronics, and its technological variations. Further it offers the description of the characteristics of the development of NIL technology, its contemporary trends and future use. The aim of this thesis is to introduce NIL technology and provide an insight into the current issues of its production, application and technological development.
This thesis offers a comprehensive overview of NIL technology derived from scientific literature and the description of different functions for each variation applied to this technology, which can be used in other fields of litography outside of electrical industry.
Klíčová slova
Nanoimprint litografie, Nanovýroba, Nanoimprint litografie při pokojové teplotě, Nanotransferový tisk, Metoda "Roll-to-roll", Tepelná nanoimprint litografie, Hybridní lithografie, UV nanoimprint litografie, Metoda "Step-and-Flash"
Předkládaná bakalářská práce je zaměřena na popsání technologie "nanoimprinting lithography" (NIL) využívané v elektrotechnickém průmyslu. Její součástí je zmapování aplikací technologie NIL v oblasti tištěné i flexibilní elektroniky a uvedení používaných variant v oblasti technologických postupů. Dále specifikace a charakteristika současných trendů vývoje této technologie a její využití do budoucna. Cílem je tedy poskytnout určité představení této technologie a pomoci pochopit stávající problematiku výroby a vývoje.
Hlavní přínos práce spočívá ve shromáždění důležitých informací a následném vyvození poznatků o funkci jednotlivých typů technologických postupů. Tyto lze aplikovat při jakékoliv jiné práci v oblasti litografie, nejen v elektronickém průmyslu.
Anotace v angličtině
This bachelor thesis focuses on the description of "nanoimprinting lithography" (NIL) used in electrical industry. It introduces different aplications of this technology in printed and flexible electronics, and its technological variations. Further it offers the description of the characteristics of the development of NIL technology, its contemporary trends and future use. The aim of this thesis is to introduce NIL technology and provide an insight into the current issues of its production, application and technological development.
This thesis offers a comprehensive overview of NIL technology derived from scientific literature and the description of different functions for each variation applied to this technology, which can be used in other fields of litography outside of electrical industry.
Klíčová slova
Nanoimprint litografie, Nanovýroba, Nanoimprint litografie při pokojové teplotě, Nanotransferový tisk, Metoda "Roll-to-roll", Tepelná nanoimprint litografie, Hybridní lithografie, UV nanoimprint litografie, Metoda "Step-and-Flash"
Popište technologii "nanoimprinting lithography" (NIL) využívanou v elektronickém průmyslu.
Zmapujte aplikace technologie NIL v oblasti tištěné a flexibilní elektroniky.
Zpracujte přehled používaných variant technologického postupu NIL a popište jejich specifické určení a výhody.
Charakterizujte současné trendy vývoje technologie NIL a předpokládaný rozsah jejího využití do budoucna.
Zásady pro vypracování
Popište technologii "nanoimprinting lithography" (NIL) využívanou v elektronickém průmyslu.
Zmapujte aplikace technologie NIL v oblasti tištěné a flexibilní elektroniky.
Zpracujte přehled používaných variant technologického postupu NIL a popište jejich specifické určení a výhody.
Charakterizujte současné trendy vývoje technologie NIL a předpokládaný rozsah jejího využití do budoucna.
Seznam doporučené literatury
WANG, Michael, ed. Lithography [online]. InTech, 2010. ISBN 978-953-307-064-3. Doi:10.5772/45639.
GUO, L. J. Nanoimprint Lithography: Methods and Material Requirements. Advanced Materials [online]. 2007, vol. 19, no. 4, pp. 495?513. ISSN 09359648. Doi:10.1002/adma.200600882.
ZHOU, Weimin. Nanoimprint Lithography: An Enabling Process for Nanofabrication. Berlin, Heidelberg: Springer Berlin Heidelberg, 2013. ISBN 978-3-642-34427-5. Doi:10.1007/978-3-642-34428-2.
Elektronické informační zdroje (ScienceDirect, IEEE Xplore, AIP Scitation, Google Scholar, ...)
Seznam doporučené literatury
WANG, Michael, ed. Lithography [online]. InTech, 2010. ISBN 978-953-307-064-3. Doi:10.5772/45639.
GUO, L. J. Nanoimprint Lithography: Methods and Material Requirements. Advanced Materials [online]. 2007, vol. 19, no. 4, pp. 495?513. ISSN 09359648. Doi:10.1002/adma.200600882.
ZHOU, Weimin. Nanoimprint Lithography: An Enabling Process for Nanofabrication. Berlin, Heidelberg: Springer Berlin Heidelberg, 2013. ISBN 978-3-642-34427-5. Doi:10.1007/978-3-642-34428-2.
Elektronické informační zdroje (ScienceDirect, IEEE Xplore, AIP Scitation, Google Scholar, ...)