Vrstvy na bázi HfB2 jsou známé vysokou tvrdostí, nízkou rezistivitou a oxidační odolností. Díky těmto vlastnostem jsou užitečné v mnoha průmyslových odvětvích. Tato práce je zaměřena na oxidační odolnost vrstev Hf-Si-B-C-N a na její změnu vlivem přidávání dusíku do pracovního plynu. V teoretické části je popsán princip ochrany před oxidací a metody vytváření a analýzy tenkých vrstev. Výsledková část pak popisuje depoziční parametry, mechanické, elektrické, optické a tribologické vlastnosti a oxidační odolnost vrstev Hf Si B C N.
Annotation in English
HfB2-based thin layers are well known for its high hardness, low electrical resistivity and oxidation resistance. Due to these properties the films are useful in many industrial applications. This study is focused on oxidation resistance of Hf-Si-B-C-N thin films and its change caused by addition of nitrogen into the working gas. The principle of protection against oxidation and methods of forming and analysis of thin films are described in the theoretical part. The final section describes the deposition parameters, mechanical, electrical, optical and tribological properties and oxidation resistance of Hf-Si-B-C-N thin films.
Keywords
vrstvy Hf-Si-B-C-N, pulzní magnetronové naprašování, tvrdost, oxidační odolnost
Vrstvy na bázi HfB2 jsou známé vysokou tvrdostí, nízkou rezistivitou a oxidační odolností. Díky těmto vlastnostem jsou užitečné v mnoha průmyslových odvětvích. Tato práce je zaměřena na oxidační odolnost vrstev Hf-Si-B-C-N a na její změnu vlivem přidávání dusíku do pracovního plynu. V teoretické části je popsán princip ochrany před oxidací a metody vytváření a analýzy tenkých vrstev. Výsledková část pak popisuje depoziční parametry, mechanické, elektrické, optické a tribologické vlastnosti a oxidační odolnost vrstev Hf Si B C N.
Annotation in English
HfB2-based thin layers are well known for its high hardness, low electrical resistivity and oxidation resistance. Due to these properties the films are useful in many industrial applications. This study is focused on oxidation resistance of Hf-Si-B-C-N thin films and its change caused by addition of nitrogen into the working gas. The principle of protection against oxidation and methods of forming and analysis of thin films are described in the theoretical part. The final section describes the deposition parameters, mechanical, electrical, optical and tribological properties and oxidation resistance of Hf-Si-B-C-N thin films.
Keywords
vrstvy Hf-Si-B-C-N, pulzní magnetronové naprašování, tvrdost, oxidační odolnost
Prostudovat současný stav problematiky v oblasti přípravy a vlastností multikomponentních materiálů Hf-Si-B-C-N.
Zvládnout přípravu vrstev Hf-Si-B-C-N na depoziční aparatuře Balzers BAS 450.
Zvládnout obsluhu přístrojů pro charakterizaci mechanických vlastností, tloušťky, vnitřního pnutí a elektrické rezistivity vrstev.
Pokusit se o nalezení korelace mezi depozičními parametry a vlastnostmi vrstev, zvláště pak z hlediska jejich oxidační odolnosti.
Research Plan
Prostudovat současný stav problematiky v oblasti přípravy a vlastností multikomponentních materiálů Hf-Si-B-C-N.
Zvládnout přípravu vrstev Hf-Si-B-C-N na depoziční aparatuře Balzers BAS 450.
Zvládnout obsluhu přístrojů pro charakterizaci mechanických vlastností, tloušťky, vnitřního pnutí a elektrické rezistivity vrstev.
Pokusit se o nalezení korelace mezi depozičními parametry a vlastnostmi vrstev, zvláště pak z hlediska jejich oxidační odolnosti.