První část dizertační se zabývá podrobnou studií mikrostruktury a mechanických a optických vlastností vrstev Si-B-C-N připravených reaktivní pulzní magnetronovou depozicí a následně žíhaných až do 1700°C ve vzduchu a inertních plynech.
Druhá část dizertační práce je zaměřena na přípravu a studium vlastností vrstev (Zr)-B-C-(N). Pulzní reaktivní magnetronové naprašování při frekvenci pulzů 10 kHz s konstantním poměrem t 1 /T = 0,85, tedy při délce napěťového pulzu 85 us se ukázalo jako vhodná technika pro reprodukovatelnou přípravu vysoce kvalitních vrstev Zr-B-C-N s hladkým povrchem (průměrná drsnost Sa < 4 nm) bez defektů a dobrou adhezí k substrátům.
Anotace v angličtině
The first part of the thesis is focused on the detailed study of the microstructure and mechanical and optical properties of Si-B-C-N films prepared by reactive pulsed magnetron sputtering and consequently treated in air and inert gases up to 1700°C.
The second part of the thesis is focused on the preparation and study of properties of (Zr)-B-C-(N) films. A pulsed reactive magnetron sputtering at a repetition frequency of pulses of 10 kHz with a fixed 85 % duty cycle, i.e. at a voltage pulse duration of 85 us, was found to be a suitable technique for a reproducible fabrication of high-quality defect-free Zr-B-C-N films with smooth surfaces (the average roughness Sa < 4 nm) and good adhesion to substrates.
První část dizertační se zabývá podrobnou studií mikrostruktury a mechanických a optických vlastností vrstev Si-B-C-N připravených reaktivní pulzní magnetronovou depozicí a následně žíhaných až do 1700°C ve vzduchu a inertních plynech.
Druhá část dizertační práce je zaměřena na přípravu a studium vlastností vrstev (Zr)-B-C-(N). Pulzní reaktivní magnetronové naprašování při frekvenci pulzů 10 kHz s konstantním poměrem t 1 /T = 0,85, tedy při délce napěťového pulzu 85 us se ukázalo jako vhodná technika pro reprodukovatelnou přípravu vysoce kvalitních vrstev Zr-B-C-N s hladkým povrchem (průměrná drsnost Sa < 4 nm) bez defektů a dobrou adhezí k substrátům.
Anotace v angličtině
The first part of the thesis is focused on the detailed study of the microstructure and mechanical and optical properties of Si-B-C-N films prepared by reactive pulsed magnetron sputtering and consequently treated in air and inert gases up to 1700°C.
The second part of the thesis is focused on the preparation and study of properties of (Zr)-B-C-(N) films. A pulsed reactive magnetron sputtering at a repetition frequency of pulses of 10 kHz with a fixed 85 % duty cycle, i.e. at a voltage pulse duration of 85 us, was found to be a suitable technique for a reproducible fabrication of high-quality defect-free Zr-B-C-N films with smooth surfaces (the average roughness Sa < 4 nm) and good adhesion to substrates.