Předkládaná bakalářská práce se v úvodu věnuje problematice plazmatu a plazmových
technologií. V další kapitole popisuje současný stav problematiky na poli modelování výbojů
plazmatu během depozice tenkých vrstev. Tato kapitola také obsahuje stručný popis dvou
výchozích modelů pro tvorbu rozšířeného parametrického modelu. Dále se práce věnuje
metodám zpracování, kde jsou uvedeny odvození rovnic použitých v rozšířeném modelu a
volba parametrů. Je zde také uvedeno, jak byly předcházející modely doplněny. V poslední kapitole jsou ukázány výsledky rozšířeného modelu pro dva výbojové režimy a tyto výsledky jsou zde také diskutovány. Diskuse se opírá o experimentální data naměřená u nás na katedře, nebo převzatá z odborné literatury.
Anotace v angličtině
At the beginning, the presented bachelor's thesis is focused on the plasma medium and plasma technologies. Next, it describes the current state in the field of modelling of plasma discharges during the deposition of thin films. This chapter also contains a brief description of two models used for the creation of an extended parametric model. Furthermore, the work deals with the used methodology, which presents the derivation of the equations used in the extended model, and parameter selection. There is also referred, how the previous models were extended. In the last chapter, there are shown and discussed results of the extended model for two discharge regimes. The discussion is based on the experimental data measured at our department, or taken from the literature.
Key words:
Plasma, HiPIMS, high power impulse magnetron sputtering, deposition of thin films, modelling, simulation, sputtering of metals, parametric model
Rozsah průvodní práce
44
Jazyk
CZ
Anotace
Předkládaná bakalářská práce se v úvodu věnuje problematice plazmatu a plazmových
technologií. V další kapitole popisuje současný stav problematiky na poli modelování výbojů
plazmatu během depozice tenkých vrstev. Tato kapitola také obsahuje stručný popis dvou
výchozích modelů pro tvorbu rozšířeného parametrického modelu. Dále se práce věnuje
metodám zpracování, kde jsou uvedeny odvození rovnic použitých v rozšířeném modelu a
volba parametrů. Je zde také uvedeno, jak byly předcházející modely doplněny. V poslední kapitole jsou ukázány výsledky rozšířeného modelu pro dva výbojové režimy a tyto výsledky jsou zde také diskutovány. Diskuse se opírá o experimentální data naměřená u nás na katedře, nebo převzatá z odborné literatury.
Anotace v angličtině
At the beginning, the presented bachelor's thesis is focused on the plasma medium and plasma technologies. Next, it describes the current state in the field of modelling of plasma discharges during the deposition of thin films. This chapter also contains a brief description of two models used for the creation of an extended parametric model. Furthermore, the work deals with the used methodology, which presents the derivation of the equations used in the extended model, and parameter selection. There is also referred, how the previous models were extended. In the last chapter, there are shown and discussed results of the extended model for two discharge regimes. The discussion is based on the experimental data measured at our department, or taken from the literature.
Key words:
Plasma, HiPIMS, high power impulse magnetron sputtering, deposition of thin films, modelling, simulation, sputtering of metals, parametric model
Zásady pro vypracování
Studium literatury o magnetronovém naprašování a parametrických modelech vysokovýkonových magnetronových výbojů.
Doplnit stávající parametrický model vysokovýkonového magnetronového výboje o popis chování pracovního plynu a dvakrát ionizovaných kovů.
Implementovat tento model ve vhodném programovacím prostředí. Pomocí takto upraveného parametrického modelu provést výpočty výbojových charakteristik pro vybrané režimy pulzního vysokovýkonového magnetronového výboje.
Provést kvalitativní diskusi výsledků výpočtů získaných upraveným parametrickým modelem.
Zásady pro vypracování
Studium literatury o magnetronovém naprašování a parametrických modelech vysokovýkonových magnetronových výbojů.
Doplnit stávající parametrický model vysokovýkonového magnetronového výboje o popis chování pracovního plynu a dvakrát ionizovaných kovů.
Implementovat tento model ve vhodném programovacím prostředí. Pomocí takto upraveného parametrického modelu provést výpočty výbojových charakteristik pro vybrané režimy pulzního vysokovýkonového magnetronového výboje.
Provést kvalitativní diskusi výsledků výpočtů získaných upraveným parametrickým modelem.